韩国企业石墨烯实验室 （Graphene Lab） 开发出了基于石墨烯制造的EUV光罩保护膜 （Pellicle） 。

单片机解密而使用这种EUV光罩保护膜后，在使用EUV光刻机进行芯片的生产时，有望显著提高生产芯片的良率。

一时之间，引发无数人的关注，毕竟良率现在是悬在台积电、三星等晶圆厂身上的利剑，并且是工艺越先进，良率越低。

比如之前就有媒体报道称，三星的5nm、4nm工艺，其良率低到离谱，甚至只有30％左右，让高通都受不了了，不得不转单台积电。

而一旦能够大幅度提升良率了，像三星这样的晶圆厂岂不是求着买？提升良率就是降低成本，提升竞争力啊。

那么问题来了， 单片机解密石墨烯EUV光罩保护膜到底是什么膜，为何会有这个效果？

我们知道，单片机解密在芯片制造中，EUV光刻机的作用是将光掩膜板上的电路图，通过EUV光线，刻录到涂了光刻胶的硅晶圆上。

这是至关重要的一部分，光掩膜板也是芯片流片中最贵的一部分，一个7nm的光掩膜板成本迅速升至1500万美元。

而光掩膜板上面，单片机解密有一层保护膜，保护光罩表面免受空气中微分子或污染物的影响，以及保护当EUV光线刻录时带来的影响。