英特尔已经获得了阿斯麦（ASML）在明年上半年制造的大部分高数值孔径 (NA) 极紫外 (EUV) 光刻设备。

单片机解密ASML今年计划生产5台高NA EUV光刻设备，而这些设备将全部供应给英特尔。

他们表示，ASML每年生产高数值孔径（NA） EUV设备的能力约为5-6台，由此可见英特尔已经获得了计划在2024年生产的全部5台设备——每台单位的成本约为3.7亿美元，这凸显了英特尔在先进制造技术上的巨大投资。

与此同时，英特尔的竞争对手如三星和SK海力士则必须等到2025年下半年才能获得此类设备。他们还表示，这家美国芯片制造商在宣布重新进入芯片代工或代工芯片生产业务时，抢先购买了这些设备。

许多人或许会禁不住好奇：单片机解密台积电何时会加入这一潮流。到目前为止，该公司表示，它没有看到高数值孔径（NA）的配置对客户带来的好处，因此在可预见的未来，它将坚持使用极紫外（EUV）光刻设备。不过，对台积电来说，此举或许并不坏，因为它不乏高收入客户。包括英伟达（Nvidia）、AMD、苹果（Apple）甚至英特尔（Intel）在内的科技巨头，已经准备好并愿意为英特尔最先进的产品付出任何代价，所以我们必须等上几年，才能看到英特尔的这场赌博是否会得到回报。

ASML的高数值孔径 (NA) 极紫外EUV设备，是2nm工艺节点芯片的必备设备，单价超过5000亿韩元。